快科技2月12日消息，據(jù)媒體報(bào)道，荷蘭光刻機(jī)制造商阿斯麥（ASML）首次展出一臺(tái)新型“High NA EUV”光刻機(jī)。

阿斯麥表示，這款設(shè)備耗資3.5億美元（約合人民幣25億元），主要面向英特爾等高端半導(dǎo)體制造商，預(yù)計(jì)今年將出貨一部分，但在定制和安裝方面仍有工作要做。

據(jù)悉，數(shù)值孔徑是用來衡量光學(xué)系統(tǒng)能夠收集的光的角度范圍，通過增大數(shù)值孔徑，可以實(shí)現(xiàn)更小的分辨率和更高的分辨能力，從而滿足微細(xì)加工的要求。

從阿斯麥官網(wǎng)所公布的消息來看，他們的高數(shù)值孔徑極紫外光刻機(jī)，將命名為EXE系列。

其數(shù)值孔徑將由0.33增至0.55，已有TWINSCAN EXE:5000和TWINSCAN EXE:5200兩個(gè)型號(hào)，前者在2018年就已開始獲得客戶的訂單，后者從去年四季度也開始獲得訂單。